你的位置:首页 > 产品目录 > 超纯水设备

超纯水设备



    超纯水设备是将水中的导电介质几乎完全去除,又将水中不离解的胶体物质、气体及有机物均去除至很低程度的水处理设备。这种水中除了水分子(H20)外,几乎没有什么杂质,更没有细菌、病毒、含氯二恶英等有机物,超纯水是一般工艺很难达到的,电阻率一般为10~18.3MΩ·cm.

常用工艺:

    1. RO+离子交换
    特点:适用于原水水质较好的条件,投资较少,自动化程度相对较低,适用于出水品质在10—15兆欧/厘米。
    2. RO+EDI
    特点:自动化程度较高,出水品质稳定,适用于出水品质在15—17兆欧/厘米
    3. RO+EDI+抛光床。
    特点:自动化程度较高,投资较大,出水品质优良,适用于出水品质在17—18.3兆欧/厘米
为了保障您的实际生产需求,针对选择工艺,请咨询我司技术人员。

基本参数

指标 参数
EDI要求: 反渗透RO产水,电导率1-50μs/cm,最大允许电导率≤50μs/cm
pH值: 7.5—9
温度: 15℃--35℃
进水压力: 0.15—0.4MPa
浓水进水压力: 0.10—0.3MPa
产水压力: 0.05—0.25MPa
浓水出水压力: 0.02—0.2MPa
进水硬度: <1.0ppm(以CaCO 计)
进水有机物: TOC<0.5ppm
进水氧化剂: Cl2(活性)<0.03ppm
进水硅: SiO2<0.5ppm
进水总CO2: <3ppm
进水颗粒度: <1μm

产品特点

① 产品水品质高,长期运行产品水水质稳定。
②自动化程度高,操作管理简单,劳动强度低
③不会因再生而停机,连续再生,无需停机。
④不需化学再生,无污水排废
⑤运行费用低,能耗低
⑥占地面积小,厂房投资少

应用行业

1、太阳能光伏行业:单/多晶硅、硅片切割、太阳能电池、半导体硅材料等工用纯水和超纯水。
2、电子工业:半导体晶片切割制造、半导体芯片、半导体封装、引线框架、集成电路、印刷电路板、液晶显示器、触摸屏、眼镜镜片、数码相机镜片、导电玻璃、显像管、线路板、光通信、电脑元件、电容器洁净产品及各种元器件等生产工艺用超纯水。
3、生物医药工业:生物技术用水、医药生产用水、生化制品用水、针剂、粉针剂、药剂、大输液、医用无菌水、口服液等符合GMP标准。
4、化工工业:化工工艺用水、化学试剂、化工生产用水、精细化工、化妆品、洗洁精、洗衣液、打印机墨水等生产工艺用纯水。